碱性纳米铝溶胶JL-A2 精密抛光研磨用氧化铝溶胶

主要技术参数

精密抛光应用

10nm粒径分布窄的JL-A2可用于光学玻璃、蓝宝石与半导体材料的精密抛光，-material removal rate稳定，加工表面粗糙度低，颗粒硬度适中不易产生深划伤，抛光后易清洗不残留。

产品特点

• 一次粒径约10nm，粒度分布窄，批次稳定性好；

• 固含量20%，可用去离子水任意比例稀释，稀释后仍保持澄清稳定；

• pH 8-10的碱性体系，与水性树脂、乳液、无机粘结剂配伍性好；

• 常温密封贮存六个月无明显分层、沉降或凝胶现象；

• 杂质含量低，适用于对纯度敏感的催化与电子材料场景。

  使用建议

  使用前充分搅匀，按配方比例将JL-A2缓慢加入体系并持续搅拌；如需稀释，建议采用去离子水并控制加料速度。与其他助剂复配前请先做相容性小试。开封后请尽快用完，未用完部分应密封保存。